某光电器件集成电路芯片制作业厂在晶圆生产制造阶段中，安全使用硅烷做出硅外延性发育，烟气清洗塔导致高浓硫酸浓度含硅污水。污水具备pH下降大（2-11）、硅纯度高的特殊性，过去操作做法易突然出现硅垢堵塞了方面。 电镀废水成分表及來源 废渣首要成分表为： 分解性硅酸盐 ：SiO₂溶度达1000-1500mg/L 硝酸钠/氢防氧化钠 ：洗衣塔腐蚀性洗衣液残余物 粉末硅 ：nm级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：原材料其它杂物带到 治疗加工制作工艺 具体步骤 不断创新采取"有级结合+膜净化+汽化晶体"技艺： 七级与 ：用CaO调高pH至4-5，转化成硅酸钙沉淀出的，硅除掉率60%。 一级采和 ：加Na₂CO₃将pH升级至9，进两步沉淀出的所剩硅，串并联用镁剂除砷。 超滤膜系统 ：0.02μm陶瓷制品膜活性炭过滤微米级硅粒状，通量维持在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浸提高盐污水，成果出Na₂SO₄副物品，水造纸废水处理率超90%。 结果英文效用 总硅从1500mg/L减至5mg/L下面的 砷占比从0.8mg/L减少为0.01mg/L 装置无积灰启动可超过2年 第年回报氢氧化钠钠硫化锌约800吨